一、微反射镜和光纤自对准V型槽的制作（论文文献综述）
仲志成[1]（2008）在《集成8通道聚合物分散液晶可变光衰减器阵列关键技术的研究》文中研究指明随着光纤通信技术的发展和密集波分复用（DWDM）系统的应用,平衡系统中的信号能量就显得尤为重要,可变光衰减器就是实现这种功能的关键器件,它在光纤传输线路中可以将光信号按用户的要求进行预期定量的衰减,用以保护接收端的功能。目前普遍使用的可变光衰减器在成本、响应速度、可靠性和小型化、集成化等方面尚存在不足,难以满足快速发展的光通信网络的要求。在DWDM系统中采用新技术、新材料的光衰减器以及集成化的光衰减器阵列来替换现有产品已经是一个明显的研究发展趋势,有着巨大的市场需求。因此,高性能、低成本、小型化的新型可变光衰减器阵列的研制得到学界及产业界的极大关注。本论文的主要研究工作:调制出了满足制作可变光衰减的要求的聚合物分散液晶材料。通过改变预聚物与稀释剂的配比、光引发剂含量、固化温度、液晶浓度、薄膜厚度、紫外光强等一系列工艺条件,制备了一系列的聚合物分散液晶膜,并对制得材料相分离形貌和电光特性进行对比分析,找出最佳的工艺参数。采用射频磁控溅射方法制备了满足制作可变光衰减的要求的透明导电薄膜,文章对溅射功率、溅射时间和氩气流量、本底真空度等工艺条件对成膜的影响做了详细讨论。在细小的光纤端面及侧面溅射ITO透明导电薄膜,来作为光通路上调控PDLC材料的透明导电电极,技术上难度大,还没有先例报道。设计和制作了两种集成八通道聚合物分散液晶可变光衰减器原型器件,详细介绍了这两种衰减器阵列的结构设计、关键技术、制作工艺流程,并对器件进行了相关测试,为聚合物液晶可变光衰减器阵列的实用化在理论上和技术上创造条件。硅基衬底的原型器件将光纤对接耦合结构与液晶材料衰减功能单元合并为一体,在（100）硅基底上通过湿法定向腐蚀制作自对准光纤定位槽阵列和电极引线,作为光衰减器光通路所需的光纤对接结构,这种衰减器结构在国内外尚未见有报道,它可以使器件更加易于集成,容易实现器件的多阵列化及小型化、低成本和低能耗。测试结果表明,在1550nm工作波长条件下,整个器件插入损耗最佳值为5.27dB,衰减范围为5.27dB-18dB,回波损耗为37dB,驱动电压范围2.9Vrms-21.9Vrms,串扰大于50dB。树脂衬底的原型器件是采用准直光纤阵列和液晶盒组合方式,通过对液晶盒内的ITO透明导电电极施加电场控制聚合物分散液晶材料,来实现光衰减功能,它具有成本低、组装方便、工艺简单、可随时更换液晶盒衰减单元的优点。测试结果表明,在1550nm工作波长条件下,器件插入损耗最佳值为3.98dB,衰减范围为3.98dB-19.4dB,回波损耗为40dB,驱动电压范围2Vrms-21Vrms,通道间光串扰大于50dB。我们设计和制作的两种衰减器阵列是采用聚合物分散液晶材料技术与微机械加工技术相结合,利用聚合物液晶在不同电场强度下引起光的散射效应的变化,来实现对光路能量的可控连续衰减功能,无需偏振片,不需对液晶材料进行特殊的取向处理,与传统光衰减器相比,容易实现器件的多阵列化及小型化、低成本和低能耗,而与其它MEMS微结构型光衰减器相比,工艺较为简单。
张发国[2]（2008）在《一种反射式微型光开关的相关技术研究》文中研究指明随着3G时代的到来,超高速、超大容量和超长距离是光通信发展的必然趋势。光开关与光开关阵列是光纤通信系统重要的光器件,随着光纤通信技术的发展,DWDM在城域网和接入网的应用对具有插/分和交换功能的光开关的需要更加迫切。论文结合光开关研究目前国内外的发展现状和实际,在教育部博士学科点专项科研基金资助项目“光栅阵列-反射式微型光开关原理研究”及重庆市科委自然科学基金计划资助项目“基于MEMS技术的闪耀光开关原理研究”的资助下,对一种反射式微型光开关的相关技术进行了较为深入的研究。论文主要完成了以下几方面的工作:1.对光开关发展历史及国内外主流技术进行了综述;2.在对微光栅阵列器件的衍射角、衍射效率和光栅参数优化理论进行认真分析和较为深入研究的基础上,建立了光栅栅距对可见的衍射边缘影响的理论模型;3.在分析讨论的基础上,建立了闪耀光栅的光栅常数、闪耀角、入射角、入射波长与衍射角的关系,找出了入射角限制波长带宽的基本规律,并对确定光波的工作方式进行了讨论;4.运用高斯光束的ABCD矩阵原理,对光开关中高斯光束在自由空间中的传输规律进行了分析,设计出用于光束准直扩束的微球透镜及V型槽自准直基座,通过实验分析获得光栅的闪耀角与特定的干涉级的光学特性及其相互作用的关系;5.讨论了光开关的制作工艺,重点分析了影响光开关分辨率、衍射效率、精度等性能的工艺参数,通过工艺的比较,光开关制造采用灰阶掩模图形转印法,使高台阶数、精密尺寸的光开关制造工艺更加简单;6.利用软件对系统进行了仿真实验,实验结果表明设计的反射式微型光开关满足预期要求。
万鹏[3]（2008）在《自动交换光网络关键控制技术和相关无源光器件的研究》文中提出自动交换光网络（ASON）是一种具有智能特性的光传送网。它利用标准化的信令、路由、链路管理协议,实现了服务自动发现,连接自动建立,故障自动恢复等功能,使得光传送网和IP网络一样具有了智能特性。本论文紧密关注光网络控制平面技术和光无源器件技术,对如下几个方面进行了深入创新的研究:1.通过对ASON中用户网络接口（UNI）技术的研究,针对UNI控制平面的生存性问题,提出了一种UNI入口节点恢复机制。经过对该机制的恢复时间进行理论计算和实验测量,表明其能快速地对故障节点控制平面进行恢复。2.研究了UNI用户新的双归属配置方式,提出了一种端到端分离路径服务实现机制。在不改动现有信令、路由协议,保障网络信息安全的基础上,为光网络运营商拓展了新的服务类型。3.研究了ASON的多域结构和分层路由体系,提出了一种基于遗传算法的双向洗牌网拓扑抽象算法。仿真结果表明此种技术构建的虚拟拓扑准确度高、可扩展性强,非常适合用于大规模光网络的拓扑抽象。另外提出了一种迟滞重抽象策略,在不降低抽象拓扑性能的基础上,抑制了频繁的拓扑抽象,减轻了链路状态更新信息给ASON控制通道带来的负荷。4.研制了一种31×11×5mm3的光纤直接耦合光开关和一种亚毫秒级开关速度的光开关阵列。通过有限元仿真指导其设计过程,并对结构进行优化。采用非硅基微加工技术进行样机制作,测试结果表明其开关速度和插入损耗均达到设计预期。5.研制了一种小型电磁驱动的微机械可调光衰减器。采用电磁驱动器转动硅基微镜改变光路实现可调衰减,在结构上采用了全磁性回复,完全摆脱了通常的弹性回复造成的部件疲劳、零点偏移等器件重复性问题。
张歆东[4]（2007）在《基于聚合物液晶材料的可变光衰减器的研究》文中进行了进一步梳理光衰减器在光纤通信、光纤传感器及光纤测量系统中有着广泛的应用。本文结合当前光通信发展对光网络中光信号处理元件的高可靠度、耗电量少以及小型化的要求,采用体硅微机械加工技术,充分考虑（100）和（110）硅晶体的结晶学特征,利用聚合物液晶在不同电场强度下引起的光的散射效应的变化,来实现对光路能量的可控连续衰减,通过对聚合物分散液晶调制工艺参数的调整和器件结构的优化,设计制作出一种新型的连续可变的聚合物液晶型光衰减器原型器件。研制方案采用光纤对接耦合结构与液晶功能单元合并为一体,在（110）或（100）硅基底上通过湿法定向腐蚀制作自对准光纤定位槽与液晶微槽,形成光衰减器的光通路。这种结构在国内外尚未见报道,具有一定的创新性。它使器件更加易于集成,实现器件的多阵列化及小型化、低成本和低能耗,特别是采用聚合物液晶技术与普通的液晶型光衰减器相比,无需偏振片,不需对液晶材料进行特殊的取向处理,结构设计简单,在波分复用光纤网络中将发挥重要的作用,有着巨大的市场潜力和广阔的应用前景。
李海军[5]（2007）在《基于光通信应用的MOEMS光学无源器件技术研究》文中研究说明为了满足快速发展的光纤通信网络对新型高性能、低成本光无源器件的迫切需求,多种技术被应用于光无源器件研制之中,微光机电系统（MOEMS）技术由于具有成本低、可批量化生产的特点而受到了广泛关注,已成为研制新型光无源器件的主要技术之一。在光通信MOEMS无源器件技术研究中,MOEMS光开关和MOEMS可变光衰减器的相关技术研究具有代表性。本文详细介绍了这两种基于光通信应用的光无源器件的设计、加工以及测试技术。围绕关键指标和主要技术难点,开发了三种新型的具有高深宽比、大纵向结构尺寸加工能力的体硅MEMS加工工艺,确立了一种基于体硅MEMS加工工艺的梳齿电容线位移静电驱动竖直微反射镜自对准的1×2和2×2MOEMS光开关实现方案,研制了1×2、2×2光开关及以1×2或2×2光开关为基本单元级联构成1×8、4×4、8×8等光开关阵列产品。设计加工了一种针对于WDM光通信系统应用的新型低成本、高性能MOEMS可变光衰减器。在本研究中实现了多项关键技术的突破,其中多数属于MOEMS光无源器件的共用技术,为进一步开展光通信用MOEMS光无源器件研究奠定了基础。
贾翠萍[6]（2007）在《硅基8×8MEMS光开关阵列关键技术的研究》文中提出本文研究制作了微镜反射型扭臂驱动结构的8×8MEMS光开关阵列。首先,通过（110）硅片在KOH溶液中的腐蚀特性研究,确定了制作光开关阵列微反射镜的最佳腐蚀条件,实验研究确定了在（110）硅片通过定向掩模腐蚀难以制作出自对准光纤定位槽,光开关阵列中采用光纤准直器进行耦合,通过对比研究（110）硅片在KOH溶液和KOH+IPA溶液中的凸角削角情况以及菱形凸角补偿效果,得出在KOH+IPA溶液中菱形凸角补偿效果较好的结论。其次,介绍了8×8光开关阵列的工作原理,通过分析悬臂驱动结构参数和驱动电压的关系,确定了光开关单元上电极驱动结构尺寸,通过对比分析采用平面下电极结构和倾斜下电极结构光开关的驱动电压,确定了光开关阵列中采用倾斜下电极结构。再次,计算了光开关阵列中光纤准直器耦合、微反射镜对插入损耗的影响。最后,对光开关阵列的制作工艺进行了研究,提出了采用HF-HNO3抛光溶液对制作扭臂驱动结构的工艺进行改进,依据（111）硅片的各向异性腐蚀特点,在偏4.5°（111）硅片上设计并制作出了倾斜下电极阵列,并对制作的光开关器件进行测试,测试结果表明本文设计制作的8×8MEMS光开关阵列满足光通信网络的要求。
任大海,杜杰,阎梅芝,尤政[7]（2006）在《静电微反射镜的发展与应用》文中研究表明本文从静电微反射镜结构、驱动方式、加工工艺等方面对目前静电微反射镜的原理和实现方法进行总结,分别讨论了它们的功能特点和应用方向,分析了不同应用领域的静电微反射镜的性能要求和结构方式,重点介绍了静电微反射镜在投影显示器和空间光通信等领域的应用,最后讨论了静电微反射镜在光学特性分析、驱动方式、工艺设计、动态特性和控制方法等方面的关键问题及发展方向。
罗雁横,张瑞君[8]（2006）在《用于VCSEL与光纤对准的新型集成微光学系统》文中研究指明半导体激光器与光纤耦合封装模块是光网络中最重要和关键的元器件之一。文章介绍了用于VCSEL与光纤对准的一种新型集成微光学系统。该微光学系统用于控制VCSEL光束方向相当有效,能极大提高耦合效率,而且具有很好的对准重复性。它采用MEMS和光电子学封装技术,可用于目前低成本的耦合模块。
贾翠萍,董玮,周敬然,王丹,臧会东,徐宝琨,陈维友[9]（2006）在《(110)硅基MEMS光开关光纤定位槽的设计》文中进行了进一步梳理利用KOH溶液腐蚀在（110）硅片上制作2×2 MEMS光开关,微反射镜表面光滑且垂直度较好,其质量高于用同样方法在（100）硅片上制作的反射镜,但是却存在自对准V型槽难以实现的问题。依据（110）硅片的结晶学特点,设计并制作了夹角为38.94°的两个光纤定位槽:一个为U型槽,两侧面均为{111}面;另一个是呈锯齿状的光纤槽,它是由腐蚀出的平行四边形蚀坑串组成。介绍了锯齿状沟槽的实现原理,对平行四边形蚀坑尺寸进行了分析设计,并采用菱形凸角补偿结构实现凸角补偿。这两种光纤定位槽结构都能够很好地固定光纤,并实现了光纤的自对准,且制作方法简单。
鲍俊峰[10]（2006）在《基于微加工技术的光开关及光互连结构研究》文中进行了进一步梳理本博士论文对基于非硅基微加工技术的光开关的设计分析与器件制作以及基于软光刻技术的微光学器件进行了研究。 本文主体由两大部分构成。第一部分主要是基于非硅基微加工技术的光开关的研究,第二部分则是基于软光刻技术的微光学器件的研究。文中从理论分析和实验验证两个方面对器件的设计分析及制作封装进行了深入的研究。 第一部分包括四个章节,其中前三个章节分别介绍了三种非硅基光开关的设计,驱动原理及测试结果,另外一个章节则对这三种光开关的制作工艺做了一个总结。各章的主要内容分别介绍如下: 其中第二章介绍了由自锁型电磁驱动单元构筑的一种非硅基低电压驱动1×8光开关,该光开关具有小体积,低成本,可扩展的特点。该开关采用的自锁型电磁微镜驱动单元具有落地面积小,集成度高的特点,有很高的通用性,能够组成多种单元阵列,拓展出多种端口光开关。基于此单元的1×2,1×4,1×8,2×2光开关已经试制成功,并通过了浙江省新产品鉴定。 第三章介绍了一种非硅基微机械小型可扩展1×2光开关,该开关封装体积小,开关速度快,功耗低,是一种性能优越的光路切换器件,可广泛应用于光交换网络和光纤测试系统中。通过对原有1×8开关驱动单元的改进,实现了0-5VDC的标准开关电源驱动,便于系统集成,同时继承了原反射单元体积小,切换速度快的特点,通过活动单元的阵列,可将其扩展为1×N光开关。 第四章介绍了光纤直接耦合型非硅基1×2光开关,该器件是在我们前面两种采用光纤准直器类型的光开关基础上研究开发的。该器件使用电磁微线圈驱动一封装在微加工柔性框架上的活动光纤来对准另两根固定光纤,实现光路转换。驱动电压为5V,开关时间小于2ms,插入损耗0.9dB～1.1dB。器件构造工艺采用了CNC雕刻技术和EDM技术。 第五章对前面几种开关器件的制作及封装工艺进行了总结和分析,分开关实现技术、元件分析、封装方式比较、制作工艺流程及专用工装等几个方面进行了详细介绍。总结出了一整套光无源器件制作的工艺流程。
二、微反射镜和光纤自对准V型槽的制作（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、微反射镜和光纤自对准V型槽的制作（论文提纲范文）
（1）集成8通道聚合物分散液晶可变光衰减器阵列关键技术的研究（论文提纲范文）
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 可变光衰减器在全光网络中的应用 |
| 1.3 可变光衰减器的类型 |
| 1.4 光衰减器的主要性能指标 |
| 1.5 光衰减器应用发展趋势 |
| 1.6 基于聚合物液晶材料光器件的研究发展 |
| 1.7 课题来源及本文主要研究内容 |
| 1.7.1 课题的来源 |
| 1.7.2 本文主要研究内容 |
| 1.8 小节 |
| 第二章 聚合物液晶材料制备及其电光特性的研究 |
| 2.1 液晶简介 |
| 2.1.1 液晶的种类 |
| 2.1.2 液晶的基本性质 |
| 2.2 聚合物液晶复合材料 |
| 2.2.1 聚合物分散液晶的光衰减机理 |
| 2.2.2 聚合物分散液晶的制备工艺 |
| 2.3 聚合物液晶材料的制备 |
| 2.3.1 选择材料 |
| 2.3.2 紫外辐照相分离实验 |
| 2.4 PDLC 膜的性能测试和结果分析 |
| 2.4.1 液晶和预聚物的筛选 |
| 2.4.2 预聚物和稀释剂的配比对PDLC 膜特性影响 |
| 2.4.3 不同的光引发剂含量对PDLC 膜特性的影响 |
| 2.4.4 不同固化温度对PDLC 膜特性的影响 |
| 2.4.5 液晶含量对PDLC 膜特性的影响 |
| 2.4.6 不同薄膜厚度对PDLC 电光特性的影响 |
| 2.4.7 不同紫外光辐照强度的影响 |
| 2.4.8 材料响应时间测试 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 透明导电电极ITO 制备技术的研究 |
| 3.1 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜的介绍 |
| 3.2 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜电学性质 |
| 3.3 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜光学性质 |
| 3.4 ITO 透明导电薄膜的制备技术 |
| 3.5 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜的测试与分析 |
| 3.6 小结 |
| 第四章 集成八通道可变光衰减器阵列的设计与制作技术的研究 |
| 4.1 硅基衬底器件结构设计 |
| 4.1.1 一维单模光纤耦合通道阵列设计 |
| 4.1.2 电极引线阵列设计 |
| 4.2 工艺设备 |
| 4.3 硅基光衰减器阵列的制作工艺流程 |
| 4.3.1 自对准光纤槽的制作 |
| 4.3.2 湿法腐蚀工艺 |
| 4.3.3 驱动电极金属引线的制作 |
| 4.3.4 单模光纤端面溅射氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜 |
| 4.3.5 光衰减器阵列的组装 |
| 4.4 树脂衬底阵列器件结构设计 |
| 4.5 树脂衬底聚合物液晶光衰减器的制作 |
| 4.5.1 凹型衬底的制作 |
| 4.5.2 液晶盒电极的设计与制作 |
| 4.5.3 准直光纤阵列的选择与插入损耗分析 |
| 4.6 树脂衬底聚合物分散液晶可变光衰减器阵列的组装 |
| 4.7 小节 |
| 第五章 集成八通道可变光衰减器阵列的测试 |
| 5.1 建立测试系统 |
| 5.2 衰减指标的测试 |
| 5.2.1 衰减指标的测试结果 |
| 5.3 小结 |
| 第六章 结论 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 工作展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及参与项目 |
| 摘要 |
| ABSTRACT |
（2）一种反射式微型光开关的相关技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 绪论 |
| 1.1 课题的背景及意义 |
| 1.2 光开关的发展及国内外研究现状 |
| 1.2.1 光开关的分类 |
| 1.2.2 光开关的应用 |
| 1.2.3 MEMS 技术 |
| 1.2.4 国内外研究现状 |
| 1.3 课题的来源及主要完成的工作 |
| 2 闪耀光栅原理 |
| 2.1 概述 |
| 2.2 闪耀光栅工作原理 |
| 2.2.1 闪耀光栅光强分布 |
| 2.2.2 闪耀光栅光谱的缺级 |
| 2.2.3 闪耀光栅光强分布图 |
| 2.3 闪耀光栅与微平面镜的比较 |
| 2.3.1 微平面反射镜光强分布图 |
| 2.3.2 衍射效率 |
| 2.3.3 微型闪耀光栅与微反射镜比较研究 |
| 2.4 闪耀光栅的应用 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 总体方案设计 |
| 3.1 概述 |
| 3.2 光开关参数 |
| 3.2.1 光开关评价参数 |
| 3.2.2 光开关设计参数 |
| 3.3 准直器设计 |
| 3.3.1 光束准直方法 |
| 3.3.2 V 型槽 |
| 3.3.3 球透镜及方坑 |
| 3.4 微镜设计 |
| 3.4.1 微镜参数 |
| 3.4.2 微镜参数优化 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 光波传播特性研究 |
| 4.1 概述 |
| 4.2 高斯光束及ABCD 矩阵 |
| 4.2.1 高斯光束模型 |
| 4.2.2 高斯光束的ABCD 矩阵 |
| 4.3 光开关中的光波传播特性 |
| 4.3.1 入射光纤与准直器间的光波特性 |
| 4.3.2 准直器与准直器间的光波特性 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 光开关损耗分析 |
| 5.1 概述 |
| 5.2 耦合损耗分析 |
| 5.2.1 横向耦合损耗 |
| 5.2.2 纵向耦合损耗 |
| 5.2.3 倾斜耦合损耗 |
| 5.3 回波因素 |
| 5.4 元器件加工不完善引起的损耗 |
| 5.5 光波的衍射损耗 |
| 5.6 本章小结 |
| 6 光开关加工工艺 |
| 6.1 二元光学介绍 |
| 6.1.1 二元光学 |
| 6.1.2 二元光学的应用 |
| 6.2 闪耀光栅的二元光学分析 |
| 6.3 二元光学器件制作工艺 |
| 6.4 光开关加工过程 |
| 6.4.1 概述 |
| 6.4.2 掩模版制作 |
| 6.4.3 图形转印 |
| 6.4.4 刻蚀 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 实验结果分析 |
| 7.1 实验器材及系统设置 |
| 7.1.1 实验器材 |
| 7.1.2 系统设置 |
| 7.1.3 实验计算方案选择 |
| 7.2 系统优化 |
| 7.3 本章小结 |
| 8 研究工作总结 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 |
（3）自动交换光网络关键控制技术和相关无源光器件的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目录 |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 本论文的研究内容、主要工作及创新点 |
| 1.1.1 本论文的研究内容 |
| 1.1.2 作者的主要工作 |
| 1.1.3 本论文的主要创新点 |
| 1.2 光传送网技术的发展 |
| 1.2.1 准同步数字体系(PDH) |
| 1.2.2 同步光网络(SONET/SDH) |
| 1.2.3 波分复用系统(WDM) |
| 1.2.4 光传送网(OTN) |
| 1.3 自动交换光网络(ASON)技术 |
| 1.3.1 研究背景 |
| 1.3.2 ASON标准化进程 |
| 1.3.3 ASON体系结构 |
| 1.3.4 ASON控制平面的关键技术及协议 |
| 1.3.5 ASON技术的应用现状 |
| 1.4 ASON中的的光无源器件技术 |
| 1.4.1 光无源器件在ASON中的应用 |
| 1.4.2 光开关和可调光衰减器原理 |
| 1.4.3 微加工技术及MEMS概述 |
| 1.5 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第2章 ASON中UNI接口技术研究 |
| 2.1 UNI接口技术介绍 |
| 2.1.1 UNI接口的组成 |
| 2.1.2 UNI信令介绍 |
| 2.1.3 UNI连接建立过程信令交互实例 |
| 2.2 UNI控制平面的生存问题 |
| 2.2.1 控制平面的故障介绍 |
| 2.2.2 控制平面故障的探测和类型判断 |
| 2.2.3 控制平面节点故障的恢复 |
| 2.2.4 UNI入口节点控制平面恢复时间的理论分析 |
| 2.2.5 UNI入口节点控制平面恢复时间的实验测量 |
| 2.2.6 恢复机制总结 |
| 2.3 UNI中分离路径服务的信令研究 |
| 2.3.1 光网络中分离路径服务介绍 |
| 2.3.2 UNI对分离路径服务的支持 |
| 2.3.3 UNI双归属配置模型 |
| 2.3.4 双归属配置实现路径分离的探讨 |
| 2.3.5 一种新的UNI双归属路径分离实现机制 |
| 2.3.6 实现机制总结 |
| 2.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第3章 ASON中多域路由技术研究 |
| 3.1 ASON多域结构和分层路由体系介绍 |
| 3.1.1 分层路由技术介绍 |
| 3.1.2 分层信令技术介绍 |
| 3.2 跨域光路连接的实现技术 |
| 3.2.1 拓扑抽象实现网络分层 |
| 3.2.2 基于抽象拓扑的端到端光路的建立 |
| 3.2.3 抽象拓扑的更新 |
| 3.3 路由域的拓扑抽象算法 |
| 3.3.1 拓扑抽象技术介绍 |
| 3.3.2 光网络中的拓扑抽象 |
| 3.3.3 基于双向洗牌网的光网拓扑抽象算法 |
| 3.4 拓扑重抽象机制 |
| 3.4.1 迟滞重抽象策略 |
| 3.4.2 重抽象策略在路由域Speaker中的实现 |
| 3.5 性能仿真 |
| 3.5.1 仿真环境 |
| 3.5.2 拓扑抽象算法的仿真比较 |
| 3.5.3 重抽象机制的仿真比较 |
| 3.5.4 不同网络负荷下网络性能的比较 |
| 3.6 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第4章 微机械光开关 |
| 4.1 技术背景 |
| 4.2 光纤直接耦合型1×2光开关 |
| 4.2.1 器件设计与制作 |
| 4.2.2 器件理论分析 |
| 4.2.3 性能测试 |
| 4.3 亚毫秒级微加工型1×2光开关阵列 |
| 4.3.1 器件设计 |
| 4.3.2 光开关单元结构性能仿真 |
| 4.3.3 光开关阵列的制作 |
| 4.3.4 开关性能测试 |
| 4.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第5章 微机械可调光衰减器 |
| 5.1 VOA技术背景 |
| 5.2 VOA器件设计和理论分析 |
| 5.2.1 VOA器件工作原理与结构设计 |
| 5.2.2 光纤准直器的衰减特性分析 |
| 5.2.3 衰减器特性分析 |
| 5.3 VOA器件制作和性能测试 |
| 5.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第6章 总结和展望 |
| 6.1 工作总结 |
| 6.2 分析和展望 |
| 博士在读期间发表的论文 |
| 第一作者文章或专利 |
| 非第一作者文章或专利 |
| 致谢 |
（4）基于聚合物液晶材料的可变光衰减器的研究（论文提纲范文）
| 提要 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 光衰减器 |
| 1.2.1 光衰减器的发展 |
| 1.2.2 光衰减器的几种新技术 |
| 1.2.3 光衰减器应用的性能要求 |
| 1.2.4 光衰减器的主要性能指标 |
| 1.2.5 几种新技术的性能比较 |
| 1.2.6 光衰减器应用发展趋势 |
| 1.3 基于聚合物液晶材料的光通讯器件 |
| 1.3.1 聚合物液晶材料的光衰减机理 |
| 1.3.2 基于聚合物液晶材料光器件的研究发展 |
| 1.4 本论文的研究意义及主要研究内容 |
| 1.4.1 研究意义 |
| 1.4.2 主要研究内容 |
| 1.4.3 论文创新之处 |
| 参考文献 |
| 第二章 聚合物液晶材料的电光特性分析 |
| 2.1 液晶介绍 |
| 2.1.1 液晶的分类 |
| 2.1.2 液晶的物理性质和各向异性 |
| 2.2 聚合物/液晶复合材料 |
| 2.2.1 聚合物分散液晶的光衰减机理 |
| 2.2.2 聚合物分散液晶的制备工艺 |
| 2.2.3 聚合物分散液晶的应用 |
| 2.3 聚合物液晶材料的制备 |
| 2.3.1 选择材料 |
| 2.3.2 紫外辐照相分离实验 |
| 2.3.3 性能测试 |
| 2.4 实验结果与讨论 |
| 2.4.1 液晶材料的影响 |
| 2.4.2 齐聚物与稀释剂的影响 |
| 2.4.3 光引发剂的影响 |
| 2.4.4 固化温度的影响 |
| 2.5 结论 |
| 参考文献 |
| 第三章 透明导电薄膜的制备及测试分析 |
| 3.1 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜的结构特性 |
| 3.1.1 ITO 透明导电薄膜发展 |
| 3.1.2 ITO 薄膜的导电机制和特性 |
| 3.2 ITO 透明导电薄膜的制备技术及工艺方法 |
| 3.2.1 磁控溅射沉积 |
| 3.2.2 真空蒸发沉积 |
| 3.2.3 化学气相沉积（CVD） |
| 3.2.4 溶胶- 凝胶(Sol- Gel)法 |
| 3.3 ITO 透明导电薄膜的制备实验与测试 |
| 3.3.1 射频磁控溅射技术介绍 |
| 3.3.2 实验设备与材料准备 |
| 3.3.3 实验工艺条件对ITO 透明导电薄膜的性能影响 |
| 3.4 单模光纤端面溅射氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜 |
| 3.5 结论 |
| 参考文献 |
| 第四章 可变光衰减器器件结构制作工艺研究及器件性能测试 |
| 4.1 器件结构设计 |
| 4.2 器件制作工艺流程 |
| 4.2.1 实验准备 |
| 4.2.2 氮化硅与二氧化硅掩膜层 |
| 4.2.3 光刻工艺 |
| 4.2.4 反应离子刻蚀（RIE）工艺 |
| 4.2.5 湿法刻蚀工艺 |
| 4.2.6 金属导电电极的制作 |
| 4.2.7 光纤溅射ITO 透明导电薄膜 |
| 4.2.8 耦合光纤 |
| 4.2.9 聚合物液晶材料填充，器件组装 |
| 4.3 器件性能指标的测试 |
| 4.3.1 建立测试系统 |
| 4.3.2 衰减指标的测试 |
| 4.3.3 响应时间测试 |
| 4.4 结论 |
| 参考文献 |
| 第五章 全文总结与展望 |
| 5.1 全文总结 |
| 5.2 工作展望 |
| 致谢 |
| 攻读博士期间取得的研究成果 |
| 摘要 |
| Abstract |
（5）基于光通信应用的MOEMS光学无源器件技术研究（论文提纲范文）
| 提要 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 光通信用 MOEMS 无源器件技术 |
| 1.3 光开关 |
| 1.3.1 光开关在光通信系统中的应用 |
| 1.3.2 光开关相关技术现状 |
| 1.3.3 MOEMS 光开关相关技术状况 |
| 1.4 可变光衰减器 |
| 1.4.1 可变光衰减器在光通信系统中的应用 |
| 1.4.2 可变光衰减器相关技术状况 |
| 1.4.3 微机械可变光衰减器相关技术状况 |
| 1.5 课题的研究意义及主要研究内容 |
| 1.5.1 研究意义 |
| 1.5.2 主要研究内容 |
| 参考文献 |
| 第二章 高深宽比、大纵向尺寸结构体硅 MEMS 加工技术 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 常用的几种 MEMS 加工技术 |
| 2.2.1 表面 MEMS 加工技术 |
| 2.2.2 体硅 MEMS 加工技术 |
| 2.2.3 LIGA 加工技术 |
| 2.3 全干法刻蚀SOI 体硅MEMS 加工工艺和全干法刻蚀SOG 体硅MEMS 加工工艺 |
| 2.3.1 工艺流程 |
| 2.3.2 主要关键技术 |
| 2.3.3 工艺实验结果 |
| 2.4 二次浓硼扩散/刻蚀体硅 MEMS 工艺 |
| 2.4.1 工艺流程 |
| 2.4.2 二次浓硼扩散/刻蚀体硅 MEMS 工艺实验结果 |
| 2.5 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第三章 MOEMS 光开关的制作技术研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 静电驱动1×2、2×2 2D MOEMS 光开关结构和工作原理 |
| 3.3 MOEMS 光开关的光耦合模式分析 |
| 3.3.1 光纤(准直透镜)－自由空间－光纤(准直透镜) 光路结构对插入损耗的影响 |
| 3.3.2 光纤（准直透镜）－自由空间－微反射镜－自由空间－光纤（准直透镜）光路结构对插入损耗的影响 |
| 3.4 低电压、大位移、高速梳齿电容线位移静电驱动器结构设计原理 |
| 3.4.1 静电驱动器 |
| 3.4.2 线位移梳齿电容静电驱动器 |
| 3.5 1×2、2×2 静电驱动 MOEMS 光开关的设计和加工 |
| 3.5.1 锥角台面光纤的设计加工 |
| 3.5.2 梳齿电容静电驱动 MOEMS 光开关驱动器设计 |
| 3.5.3 芯片版图设计 |
| 3.5.4 芯片加工 |
| 3.5.5 器件封装 |
| 3.6 1×8、4×4、8×8 光开关阵列的设计和加工 |
| 3.6.1 光开关阵列结构的级联构造方式 |
| 3.6.2 1×8、4×4、8×8 光开关阵列的制作 |
| 3.7 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 MOEMS 可变光衰减器的设计和加工技术研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 挡板式梳齿电容静电驱动MOEMS 可变光衰减器的结构及其工作原理 |
| 4.3 低插入损耗、大动态衰减范围、低波长相关损耗、低偏振相关损耗、高回波损耗光学结构设计 |
| 4.3.1 光衰减耦合模型分析 |
| 4.3.2 回波损耗分析 |
| 4.3.3 波长相关损耗分析 |
| 4.3.4 偏振相关损耗分析 |
| 4.3.5 光路结构设计 |
| 4.4 驱动器设计 |
| 4.5 版图结构设计 |
| 4.6 芯片加工 |
| 4.7 器件封装 |
| 4.8 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 MOEMS 光开关和 MOEMS 可变光衰减器的参数测试 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 MOEMS 光开关和 MOEMS 光衰减器的参数测试原理及方法 |
| 5.2.1 MOEMS 光开关参数测试原理及方法 |
| 5.2.2 MOEMS 可变光衰减器光机电参数测试原理及方法 |
| 5.3 测试结果 |
| 5.3.1 1×2、2×2 MOEMS 光开关性能参数测试结果 |
| 5.3.2 MOEMS 可变光衰减器性能参数测试结果 |
| 5.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 全文总结 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文及其它成果 |
| 致谢 |
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
（6）硅基8×8MEMS光开关阵列关键技术的研究（论文提纲范文）
| 提要 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光开关在全光通信网络中的应用 |
| 1.1.1 全光网络(AON) |
| 1.1.2 光开关在通信网络中的应用 |
| 1.2 光开关的种类 |
| 1.3 MEMS 技术 |
| 1.3.1 MEMS 技术概念及其特点 |
| 1.3.2 MEMS 工艺技术 |
| 1.3.3 MEMS 技术的应用 |
| 1.4 MEMS 光开关和MEMS 光开关阵列 |
| 1.4.1 MEMS 光开关的种类 |
| 1.4.2 MEMS 光开关关键技术 |
| 1.4.3 MEMS 光开关国内外研究现状 |
| 1.5 课题来源及本文主要研究内容 |
| 1.5.1 课题来源 |
| 1.5.2 本文的主要研究内容 |
| 1.6 小结 |
| 第二章 （110）硅片各向异性腐蚀特性的研究 |
| 2.1 硅的晶体结构 |
| 2.2 硅的湿法腐蚀 |
| 2.2.1 硅的各向异性湿法腐蚀 |
| 2.2.1.1 各向异性腐蚀剂 |
| 2.2.1.2 硅的各向异性腐蚀机制 |
| 2.2.2 硅的各向同性腐蚀 |
| 2.3 （110）硅片的结晶学特点 |
| 2.4 （110）硅片在KOH溶液中的腐蚀特性 |
| 2.4.1 KOH 溶液对（110）面的影响 |
| 2.4.2 KOH 溶液对垂直{111}面的影响 |
| 2.4.3 KOH 溶液的晶向选择性腐蚀 |
| 2.5 （110）硅片上制作自对准光纤定位槽的研究 |
| 2.6 凸角削角和菱形凸角补偿的研究 |
| 2.6.1 KOH 溶液和KOH+IPA 溶液中的凸角腐蚀 |
| 2.6.2 KOH 溶液和KOH+IPA 溶液中的菱形凸角补偿 |
| 2.6.3 菱形凸角补偿结果分析 |
| 2.7 小结 |
| 第三章 光开关阵列的工作原理与结构设计 |
| 3.1 光开关阵列的工作原理 |
| 3.2 光开关单元上电极结构设计 |
| 3.3 驱动电压与光开关结构参数关系分析 |
| 3.4 光开关单元上电极结构与驱动电压 |
| 3.5 下电极结构与驱动电压 |
| 3.5.1 平面下电极结构光开关的驱动电压 |
| 3.5.2 倾斜下电极结构光开关的驱动电压 |
| 3.6 小结 |
| 第四章 光学部分设计与分析 |
| 4.1 单模光纤传输理论 |
| 4.1.1 高斯光束传播理论 |
| 4.1.2 高斯光束的q 参数及变换公式—ABCD 变换 |
| 4.2 光纤准直器的耦合损耗分析 |
| 4.2.1 准直器的选择 |
| 4.2.2 光纤准直器耦合引起的插入损耗分析 |
| 4.3 微反射镜引起的插入损耗分析 |
| 4.3.1 微反射镜与高斯光斑匹配引起的插入损耗 |
| 4.3.2 微反射镜表面粗糙度引起的插入损耗 |
| 4.3.3 微反射镜垂直性引起的插入损耗 |
| 4.3.4 金属膜对反射效率的影响 |
| 4.4 小结 |
| 第五章 8×8 光开关阵列的制作与测试 |
| 5.1 掩模版的制作 |
| 5.2 工艺设备与工艺参数 |
| 5.3 光开关阵列的制作工艺流程 |
| 5.3.1 光开关阵列上电极的制作 |
| 5.3.1.1 {111}面的晶向定位 |
| 5.3.1.2 微反射镜阵列的制作 |
| 5.3.1.3 悬臂扭臂驱动结构的制作 |
| 5.3.2 倾斜下电极阵列的制作 |
| 5.3.2.1 （111）硅片的各向异性腐蚀特性 |
| 5.3.2.2 倾斜（111）硅片的制作 |
| 5.3.2.3 倾斜下电极掩模版图设计 |
| 5.3.2.4 倾斜下电极阵列的制作工艺流程 |
| 5.3.2.5 驱动信号金属引线的制作 |
| 5.4 光开关阵列的组装 |
| 5.5 光开关性能测试 |
| 5.5.1 微反射镜镜面粗糙度的测量 |
| 5.5.2 驱动电压的测试 |
| 5.5.3 光学性能的测试 |
| 5.6 小结 |
| 第六章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读博士学位期间发表论文及参与项目 |
| 摘要 |
| ABSTRACT |
（7）静电微反射镜的发展与应用（论文提纲范文）
| 1 微反射镜原理与实现方法 |
| (1) 镜面结构分类及其光学原理 |
| (2) 驱动器结构 |
| (3) 工艺方法 |
| 2 微反射镜的应用及典型器件 |
| 3 关键问题分析和展望 |
| 4 总结 |
（9）(110)硅基MEMS光开关光纤定位槽的设计（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 锯齿状沟槽的设计 |
| 3 结论 |
（10）基于微加工技术的光开关及光互连结构研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 概述 |
| 1.1 本论文的研究内容、主要工作及创新点 |
| 1.1.1 本论文的研究内容及结构 |
| 1.1.2 作者的主要工作 |
| 1.1.3 本文的主要创新点 |
| 1.2 技术背景及市场需求 |
| 1.3 光开关技术现状 |
| 1.2.1 机械型光开关 |
| 1.2.2 MEMS型光开关 |
| 1.2.3 波导型光开关 |
| 1.2.4 液晶型光开关 |
| 1.2.5 其他类型的光开关 |
| 1.3 微加工技术及MEMS概述 |
| 1.3.1 硅基MEMS技术 |
| 1.3.2 非硅基MEMS技术 |
| 1.4 软光刻技术概述 |
| 1.4.1 工艺简介 |
| 1.4.2 工艺类型 |
| 1.4.3 软光刻在微光学中的应用 |
| 1.5 本章小结 |
| 第一部分 基于非硅基微加工技术的微机械光开关 |
| 第二章 非硅基自锁型微机械光开关 |
| 2.1 工作原理及基本结构 |
| 2.2 理论分析与计算 |
| 2.2.1 驱动单元的理论分析 |
| 2.2.2 开关时间的理论计算 |
| 2.3 器件性能测试 |
| 2.3.1 开关时间测量 |
| 2.3.2 其他测试 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 非硅基小型可扩展1×2微机械光开关 |
| 3.1 相关背景 |
| 3.2 器件设计及结构改进 |
| 3.3 性能测试与比较 |
| 3.3.1 插入损耗 |
| 3.3.2 开关时间 |
| 3.3.3 重复性 |
| 3.3.4 开关寿命 |
| 3.3.5 外形尺寸 |
| 3.3.6 驱动电压及输入功率 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 非硅基光纤直接耦合型光开关 |
| 4.1 技术背景 |
| 4.2 器件设计与制作 |
| 4.3 器件理论分析 |
| 4.3.1 驱动系统电磁场分析 |
| 4.3.2 弹性框架性能分析 |
| 4.4 性能测试 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 微机械开关器件制作工艺 |
| 5.1 实现技术简介 |
| 5.1.1 EDM技术 |
| 5.1.2 CNC雕刻技术 |
| 5.2 关键元件性能研究 |
| 5.2.1 准直器性能理论分析及测试 |
| 5.2.2 准直器焊接固定稳定性实验研究 |
| 5.3 器件制作工艺介绍 |
| 5.3.1 器件的制作工艺步骤 |
| 5.3.2 封装中的主要问题 |
| 5.4 准直器对准调节装置 |
| 5.5 本章小结 |
| 第二部分 基于软光刻技术的光学器件 |
| 第六章 基于软光刻的光互连耦合结构 |
| 6.1 光互连概述 |
| 6.1.1 光互连的兴起及其发展 |
| 6.1.2 光互连的分类 |
| 6.1.3 光互连存在的技术问题 |
| 6.1.4 光电系统的思路设计 |
| 6.2 光互联耦合结构方案 |
| 6.2.1 光互连耦合结构原理 |
| 6.3 光互连耦合波导的设计 |
| 6.3.1 已经提出设计方案及其缺点 |
| 6.3.2 三维光互连耦合波导方案的设计 |
| 6.4 三种结构的耦合效率模拟 |
| 6.4.1 光互连耦合波导结构参数设计 |
| 6.4.2 三种结构耦合效率对比性分析 |
| 6.5 光互连耦合结构的制作 |
| 6.6 本章小结 |
| 第七章 定向耦合器型高聚物光开关 |
| 7.1 高聚物光开关概况 |
| 7.2 理论分析 |
| 7.3 波导结构数值计算及器件性能数值模拟 |
| 7.3.1 波导结构数值计算 |
| 7.3.2 器件性能数值模拟 |
| 7.4 结论 |
| 第八章 总结与展望 |
| 8.1 工作总结： |
| 8.2 分析与展望 |
| 【参考文献】 |
| 附录1：博士期间发表论文： |
| 附录2：博士期间授权和申请的专利： |
| 致谢 |
四、微反射镜和光纤自对准V型槽的制作（论文参考文献）
- [1]集成8通道聚合物分散液晶可变光衰减器阵列关键技术的研究[D]. 仲志成. 吉林大学, 2008(11)
- [2]一种反射式微型光开关的相关技术研究[D]. 张发国. 重庆大学, 2008(06)
- [3]自动交换光网络关键控制技术和相关无源光器件的研究[D]. 万鹏. 浙江大学, 2008(09)
- [4]基于聚合物液晶材料的可变光衰减器的研究[D]. 张歆东. 吉林大学, 2007(05)
- [5]基于光通信应用的MOEMS光学无源器件技术研究[D]. 李海军. 吉林大学, 2007(05)
- [6]硅基8×8MEMS光开关阵列关键技术的研究[D]. 贾翠萍. 吉林大学, 2007(03)
- [7]静电微反射镜的发展与应用[J]. 任大海,杜杰,阎梅芝,尤政. 激光杂志, 2006(06)
- [8]用于VCSEL与光纤对准的新型集成微光学系统[J]. 罗雁横,张瑞君. 电子与封装, 2006(10)
- [9](110)硅基MEMS光开关光纤定位槽的设计[J]. 贾翠萍,董玮,周敬然,王丹,臧会东,徐宝琨,陈维友. 微细加工技术, 2006(02)
- [10]基于微加工技术的光开关及光互连结构研究[D]. 鲍俊峰. 浙江大学, 2006(09)